Dènyèman, Inivèsite Beijing nan Teknoloji chimik te anonse yon patant pou envansyon nan yon idwojèn ki bay sulfide naphalimide fotoinyatri apwopriye pou gerizon aerobic nan UVLEDs.
Envansyon sa a patant divilge yon idwojèn ki bay thioether naphthalimide fotoinya apwopriye pou gerizon aerobic nan UVLED, ki gen rapò ak jaden an nan polymère fotosensib. Li baze sou itilize nan fotoinyatri ki deja egziste nan sous limyè UVLED anba iradyasyon, pwoblèm nan nan pèfòmans pòv nan prezans nan oksijèn pwopoze; envansyon prezan an prepare yon kalite donatè idwojèn ki gen ladan vòlè-kalite fotoinyati dérivés, epi li bay idwojèn ki mansyone pi wo a ki gen donatè a preparasyon nan vòlè a naphthalimide fotoinya ak aplikasyon li yo nan sistèm nan fotokopi; efè benefisye envansyon prezan an se: (1) Fotoinyatri a prepare pa envansyon an prezan te siyifikativman pwolonje vag absòpsyon iltravyolèt, Nan seri a vag nan sous la limyè, li gen bon kapasite absòpsyon iltravyolèt. (2) Fotoinyatri a prepare pa envansyon an prezan te evidan anti-oksidasyon ak efè polimerizasyon anpèchman. (3)Estabilite migrasyon nan fotoinyator la prepare pa envansyon an evidamman amelyore.
Reklamasyon prensipal: Yon idwojèn-donatè ki gen vòlè naphthalimide fotoinisid apwopriye pou UV-dirije gerizon aerobic, karakterize nan ke idwojèn-donatè ki gen sulfide naphalimide fòmil estriktirèl la nan fotoinyatri a amine se jan sa a: valè a nan chenn nèt soti nan 1 a 10; seri a valè nan n se de preferans 1 a 5; valè n se pi de preferans 1; R1 chwazi nan C3-C20 Alkyl grès, hydroxyl, vinl, propenyl, methyl, ethyl, alkoksik, halogen, aralkyl oswa fen, de preferans R1 se vinl, methyl; R2 se chwazi nan kabòn, benzoyl, Acetyl, Acryl, metoksik, etoksi, nitwo, de preferans R2 se metoksik.
